BX-G103系列是針對高-端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的極-致型多入射角激光橢偏儀。 BX-G03系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時(shí)測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實(shí)時(shí)測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。

產(chǎn)品型號：BX-G103

更新時(shí)間：2024-05-14

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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檢測分析儀器

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產(chǎn)品介紹

關(guān)鍵詞：

激光測量儀橢偏儀光源橢偏儀橢偏儀設(shè)備激光測高儀精度

產(chǎn)品用途：激光橢偏儀

BX-G103系列是針對高-端研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的極-致型多入射角激光橢偏儀。 BX-G103系列可在單入射角度或多入射角度下對樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k；也可用于同時(shí)測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實(shí)時(shí)測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)了納米薄膜的絕對厚度測量。

儀器特點(diǎn)：

l 測量方法：Delta測量范圍0-360o，無測量死角問題（即使在0o或180o附近時(shí)也具有極-高的準(zhǔn)確度），也可消除粗糙表面引起的消偏振效應(yīng)對結(jié)果的影響

l 原子層量級的極-高靈敏度和準(zhǔn)確度：采樣方法、高穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實(shí)現(xiàn)并保證了極-高的準(zhǔn)確度和穩(wěn)定性

l 百毫秒量級的快速測量：在保證極-高精度和準(zhǔn)確度的同時(shí)，可在幾百毫秒內(nèi)快速完成一次測量，可滿足快速多點(diǎn)檢測和批量檢測需求

l 精準(zhǔn)方便的樣品對準(zhǔn)：視頻式自準(zhǔn)直樣品方位精密對準(zhǔn)系統(tǒng)，精度高、操作方便

l 簡單方便的儀器操作：一鍵操作即可完成復(fù)雜的樣品測量和分析；按照質(zhì)控要求進(jìn)行數(shù)據(jù)多種導(dǎo)出；豐富的模型庫和材料庫方便用戶的高級操作；管理員/操作員不同的模式，保證儀器安全

技術(shù)參數(shù)：